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smartplasma大氣等離子體跟真空等離子有什麼區(qū)別呢？
大氣等離子體：
結(jié)構(gòu)：結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可插入現(xiàn)有生產(chǎn)線
作用：表面清潔，活化
作用區(qū)域：近似點(diǎn)狀區(qū)域，需要往復(fù)運(yùn)動(dòng)處理
產(chǎn)能：非常高
運(yùn)行成本：CDA或氮?dú)?，成本?/span>
真空等離子體:
結(jié)構(gòu)：需要真空系統(tǒng)，作為獨(dú)立的工作站
作用：表面清潔/活化，孔內(nèi)除膠/活化，基材刻蝕
作用區(qū)域：大面積，均勻性好
產(chǎn)能：一般
至於是選擇大氣等離子設(shè)備還是真空等離子設(shè)備，大家可以依據(jù)自己產(chǎn)品進(jìn)行選擇，也可以來(lái)電，我司為您提供專業(yè)定制化方案。利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。等離子體處理的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來(lái)看，等離子體清洗通常包括以下過(guò)程：無(wú)機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘餘物脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚醯亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，並可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及複雜結(jié)構(gòu)的清洗。
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